Scintillatioun Array, Scintillator Array, Matrix
Kinheng bitt verschidde Arrays fir Enn Uwendung
Mir kënnen CsI(Tl), CsI(Na), CdWO4, LYSO, LSO, YSO, GAGG, BGO Szintillatiounsarrays ubidden.Baséierend op der Applikatioun TiO2 / BaSO4 / ESR / E60 gi wëll als reflektiv Material fir Pixel Isolatioun benotzt.Eis mechanesch Veraarbechtung hält déi minimal Toleranz fir d'physesch Eegeschafte vun der Array ze optimiséieren inklusiv Toleranz, Dimensioun, Minimal Cross Talk an Uniformitéit etc.
Material Eegeschafte
Eegeschaften | CsI(Tl) | GAGG | CdWO4 | LYSO | LSO | BGO | GOS(Pr/Tb) Keramik |
Dicht (g/cm)3) | 4,51 | 6.6 | 7.9 | 7.15 | 7.3~7.4 | 7.13 | 7.34 |
Hygroskopesch | E bëssen | No | No | No | No | No | No |
Relative Light Output (% vun NaI(Tl)) (fir γ-Strahlen) | 45 | 158(HL)/132(BL)/79(FD) | 32 | 65-75 | 75 | 15-20 | 71/118 |
Zerfallzäit (n) | 1000 | 150(HL)/90(BL)/48(FD) | 14000 | 38-42 | 40 | 300 | 3000/600000 |
Afterglow @ 30ms | 0,6-0,8% | 0,1-0,2% | 0,1-0,2% | N/A | N/A | 0,1-0,2% | 0,1-0,2% |
Array Typ | Linear an 2D | Linear an 2D | Linear an 2D | 2D | 2D | 2D | Linear an 2D |
Mechanesch Design Fir Assemblée
Baséierend op d'Ennverbrauch vu versammelten Array, ginn et vill Aarte vu mechanesche Design vu Kinheng fir d'medezinesch a Sécherheetsinspektiounsindustrie ze treffen.
1D Linear Array ginn haaptsächlech fir Sécherheetsinspektioun Industrie benotzt, sou wéi Bagger Scanner, Loftfaart Scanner, 3D Scanner an NDT.Material abegraff CsI(Tl), GOS:Tb/Pr Film.
GAGG: Ce, CdWO4 scintillator etc.. Si sinn typesch mat Silicon Photodiode Linn Array gekoppelt fir auszeliesen.
2D Array ginn normalerweis fir Imaging benotzt, och medizinesch (SPECT, PET, PET-CT, ToF-PET), SEM, Gammakamera.Dës 2D Array sinn typesch mat SiPM Array gekoppelt, PMT Array fir auszeliesen.Kinheng bitt 2D Array mat abegraff LYSO, CsI(Tl), LSO, GAGG, YSO, CsI(Na), BGO Scintillator etc.
Drënner sinn Kinheng typesch Design Zeechnungen fir 1D an 2D Array fir Industrie.
Kinheng linear Array
Kinheng 2D Array
Wichteg Parameter: (A, B, C, D am Design uewen)
A.1 Material Typ: Wéi pro Ufro vum Client
A.2 Pixel Gréisst: Linear Array Pixel Gréisst A, B, C & 2D Array Pixel Gréisst A, C sinn justierbar pro Ufro,
A.3 Pitch: Linear Array A+B & 2D Array B, D sinn op Ufro justierbar.
A.4 GAP: Mir hunn de klengste Spalt 0,1 mm (inklusiv Klebstoff) fir linear Array an 0,08 mm (inklusiv Klebstoff) fir 2D-Array geliwwert.
A.5 Array deck: Wéi pro Ufro.Kinheng bitt Personnalisatioun
A.6 Behandlung vun Pixel: Poléieren, fein gemoolt oder speziell Ufro verfügbar
Typesch Pixel Gréisst & Zuelen
Material | Typesch Pixel Gréisst | Typesch Zuelen | ||
Linear | 2D | Linear | 2D | |
CsI(Tl) | 1.275x2.7 | 1 x 1 mm | 1 x16 | 19x19 |
GAGG | 1.275x2.7 | 0,5 x 0,5 mm | 1x16 | 8 x8 |
CdWO4 | 1.275x2.7 | 3 x 3 mm | 1 x16 | 8 x8 |
LYSO/LSO/YSO | N/A | 1 x 1 mm | N/A | 25 x25 |
BGO | N/A | 1 x 1 mm | N/A | 13 x 13 |
GOS(Tb/Pr) Keramik | 1.275X2.7 | 1 x 1 mm | 1x16 | 19x19 |
Minimal Gréisst vum Pixel
Material | Minimal Pixel Gréisst | |
Linear | 2D | |
CsI(Tl) | 0,4 mm Pitch | 0,5 mm Pitch |
GAGG | 0,4 mm Pitch | 0,2 mm Pitch |
CdWO4 | 0,4 mm Pitch | 1 mm Breet |
LYSO/LSO/YSO | N/A | 0,2 mm Pitch |
BGO | N/A | 0,2 mm Pitch |
GOS(Tb/Pr) Keramik | 0,4 mm Pitch | 1 mm Breet |
Scintillatioun Array Reflektor a Klebstoffparameter
Reflektor | Décke vum Reflektor + Klebstoff | |
Linear | 2D | |
TiO2 | 0,1-1 mm | 0,1-1 mm |
BaSO4 | 0,1 mm | 0,1-0,5 mm |
ESR | N/A | 0,08 mm ép |
E60 | N/A | 0,075 mm |
Scintillation Array Applikatioun
Eegeschaften | CsI(Tl) | GAGG | CdWO4 | LYSO | LSO | BGO | GOS(Tb/Pr) Keramik |
PET, ToF-PET | Jo | Jo | Jo | ||||
SPECT | Jo | Jo | |||||
CT | Jo | Jo | Jo | Jo | |||
NDT | Jo | Jo | Jo | ||||
Bagger Scanner | Jo | Jo | Jo | ||||
Container Kontroll | Jo | Jo | Jo | ||||
Gamma Kamera | Jo | Jo |
Energie Resolutioun Testen
Iwwerschwemmungen Kaart
Relativ Liichtoutput Testen Fir Linear Array
Kinheng huet Kapazitéit fir relativ Liichtoutput Verglach Tester fir LYSO / GAGG mat NaI (Tl) duerch PMT ausgeliwwert.
Uniformitéit Garantie
Kinheng wäert all eenzel Pixel pro Ufro auswielen, mir kënnen d'Liichtausgangsuniformitéit bannent ± 5%, ± 10%, ± 15% pro aner Ufuerderung halen.All Plack gouf suergfälteg ausgewielt a getest.