Saphir Substrat
Beschreiwung
Saphir (Al2O3) Eenkristall ass en exzellent multifunktionellt Material.Et huet héich Temperatur Resistenz, gutt Hëtzt conduction, héich hardness, Infraroutstrahlung Transmissioun a gutt chemesch Stabilitéit.Et ass wäit an ville Beräicher vun Industrie benotzt, national Verteidegung a wëssenschaftlech Fuerschung (wéi héich Temperatur Infraroutstrahlung Fënster).Zur selwechter Zäit ass et och eng Zort wäit benotzt Eenkristallsubstratmaterial.Et ass den éischte Choix Substrat an der aktueller bloer, violett, wäisser Liichtdiode (LED) a bloe Laser (LD) Industrie (Galliumnitridfilm muss als éischt epitaxial um Saphirsubstrat sinn), an et ass och e wichtege Superleitung Film Substrat.Nieft dem Y-System, La System an aner héich-Temperatur superconducting Filmer, et kann och benotzt ginn nei praktesch MgB2 (Magnesiumdiborid) superconducting Filmer ze wuessen (normalerweis der Single-Crystal Substrat gëtt während der Fabrikatioun vun MgB2 chemesch corroded ginn Filmer).
Eegeschaften
| Crystal Puritéit | > 99,99% |
| Schmelzpunkt (℃) | 2040 |
| Dicht (g/cm)3) | 3,98 |
| Hardness (Mho) | 9 |
| Thermesch Erweiderung | 7,5 (x10-6/oC) |
| Spezifesch Hëtzt | 0.10 (cal /oC) |
| Thermesch Konduktivitéit | 46,06 @ 0oC 25,12 @ 100oC, 12,56 @ 400oC (W/(mK)) |
| Dielektresch Konstant | ~ 9,4 @300K op der A Achs ~ 11,58@ 300K op der C Achs |
| Verloscht Tangent pa 10 GHz | < 2x10-5op A Achs, <5 x10-5an der C-Achs |
Saphir Substrat Definitioun
Saphir Substrat bezitt sech op en transparenten kristallinem Material aus Eenkristallaluminiumoxid (Al2O3).De Begrëff "Saphir" gëtt dacks benotzt fir d'Corundum Edelsteen Varietéit ze beschreiwen, déi normalerweis blo a Faarf ass.Wéi och ëmmer, wat d'Substrater ugeet, bezitt Saphir op e kënschtlech ugebauten, faarlosen, héichreinege Kristall deen a ville Applikatiounen benotzt gëtt.Hei sinn e puer Schlësselpunkten iwwer Saphir Substrate:
1. Kristallstruktur: Saphir huet eng sechseckeg Kristallstruktur an där Aluminiumatome a Sauerstoffatome ëmmer erëm arrangéiert sinn.Et gehéiert zum trigonale Kristallsystem.
2. Héich Hardness: Saphir ass ee vun den haardsten Materialien bekannt, mat enger Mohs Hardness vun 9. Dëst mécht et héich kraazt a abrasion resistent, Contributioun zu senger Haltbarkeet an longevity an der Applikatioun.
3. Liichttransmission: Saphir huet eng exzellente Liichttransmission, besonnesch an de sichtbaren an no-Infraroutregiounen.Et kann Liicht vun ongeféier 180 nm bis 5500 nm iwwerdroen, sou datt et gëeegent ass fir eng breet Palette vun opteschen an optoelektroneschen Uwendungen.
4. Thermesch a mechanesch Eegeschaften: Saphir huet gutt thermesch a mechanesch Eegeschaften, héich Schmelzpunkt, niddereg thermesch Expansiounskoeffizient, an exzellent thermesch Konduktivitéit.Et kann héich Temperaturen, mechanesch Stress an thermesch Cycling widderstoen, mécht et gëeegent fir héich Temperatur an héich Muecht Uwendungen.
5. Chemesch Stabilitéit: Saphir huet héich chemesch Stabilitéit a kann déi meescht Säuren, Alkalien an organesch Léisungsmëttel widderstoen.Dës Feature garantéiert seng Haltbarkeet an Zouverlässegkeet a verschiddenen haarden Ëmfeld.
6. Elektresch Isolatiounseigenschaften: Saphir ass en exzellenten elektreschen Isolator, dee profitabel ass fir Uwendungen déi elektresch Isolatioun oder Isolatioun erfuerderen.
7. Applikatioun: Saphir Substrate gi wäit an der Optoelektronik, Hallefleit, Liichtdioden, Laserdioden, opteschen Fënsteren, Auerkristallen a wëssenschaftlech Fuerschung benotzt.
Saphir Substrate sinn héich geschätzt fir hir Kombinatioun vun opteschen, mechanesche, thermeschen a chemeschen Eegeschaften.Seng aussergewéinlech Materialeigenschaften maachen et gëeegent fir exigent Uwendungen déi héich Haltbarkeet, héich optesch Kloerheet, elektresch Isolatioun a Resistenz géint Ëmweltelementer erfuerderen.
